[미디어펜=나광호 기자]정승일 산업통상자원부 차관이 15일 경기도 화성시 소재의 반도체·디스플레이용 소재기업인 동진쎄미켐을 방문했다.

이번 방문은 반도체 핵심소재 중 하나인 포토레지스트의 국내 생산기업 임직원을 격려하고, 현장의 목소리를 청취하기 위해 진행됐다.

동진쎄미켐은 극자외선(EUV)포토레지스트의 전 단계인 반도체용 불화아르곤 액침(ArF-immersion) 포토레지스트를 국내 최초로 개발·생산한 반도체·디스플레이용 소재 전문업체로, 올 1분기 중에 불화크립톤(KrF)과 불화아르곤 등 포토레지스트 생산공장 증설을 착공할 예정이다.

이 설비가 내년 초 정상가동되면 동진쎄미켐의 국내 포토레지스트 생산량은 현재 대비 2배 이상 늘어나게 된다.

정 차관은 "지난해 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 노력해 온 결과, 포토레지스트를 포함해 3대 품목 등 핵심소재의 공급안정성이 확보되고 있다"고 말했다. 실제로 한국무역협회에 따르면 포토레지스트 대일 수입비중은 지난해 1~6월 92%에서 7~11월 85%로 감소했다.

이어 "첨단 포토레지스트 기술개발에 있어서도 지원을 아끼지 않을 계획"이라며 "올해를 미래 10년을 만들어가는 소부장 산업 경쟁력 확보의 원년으로 삼고, 대외여건 변화와 관계없이 소부장 경쟁력 강화정책을 지속적이고 일관적으로 추진해 나가겠다"고 덧붙였다.

이준혁 동진쎄미켐 대표도 "생산공장 증설이 신속하게 착수될 수 있었던 것은 정부의 대규모 R&D 투자, 공장증설용 토지에 대한 신속한 용도변경* 등 범정부적 지원이 있었기 때문에 가능했다"고 화답했다.

한편, 포토레지스트는 감광재로써 반도체의 노광(Photo) 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 사용된다. 반응하는 빛의 파장에 따라 주로 불화크립톤(248mm)·불화아르곤(193mm)·극자외선(13.5mm)용 등으로 구분되며, 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 공정 미세화가 가능하다.

또한 벨기에(RMQC), 미국(듀폰), 독일(머크) 등 일본 외 국가로 수입국을 다변화하고 있으며, 듀폰으로부터 극자외선용 포토레지스트 개발·생산시설 등 구축을 위한 투자를 확정받아 국내 수요업체와 제품 실증테스트도 이뤄질 계획이다.